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EDI水處理系統(tǒng)工藝流程圖

2021-11-30 09:20:13

admin

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EDI水處理系統(tǒng)工藝是一整套閉合的水循環(huán)流程。EDI設(shè)備位于最后一個(gè)環(huán)節(jié)。EDI水處理系統(tǒng)工藝在很多精密工業(yè)中均有使用到，比如半導(dǎo)體電子行業(yè)，金屬加工行業(yè)，智能芯片行業(yè)，機(jī)械自動(dòng)化行業(yè)，航空航天制造行業(yè)等等。

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如圖所示，這是一個(gè)二級(jí)反滲透+EDI純水制備工藝流程圖。對(duì)于一些對(duì)于芯片使用較多的行業(yè)，芯片的純度是非常影響產(chǎn)品效果的。原水在經(jīng)過(guò)保安過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器等設(shè)備后，液體中肉眼可見(jiàn)的顆粒物都會(huì)被去除。經(jīng)過(guò)一級(jí)反滲透膜后，能去除水中的金屬化合物、大部分細(xì)菌，再經(jīng)過(guò)水箱及清洗水箱的殺菌。然后到二級(jí)反滲透環(huán)節(jié)，經(jīng)過(guò)二級(jí)反滲透之后，水質(zhì)中已經(jīng)沒(méi)有細(xì)菌，化合物雜質(zhì)，只有一些鈣鎂離子存在。最后經(jīng)過(guò)EDI除鹽，利用離子交換樹(shù)脂將水質(zhì)中的鈣鎂離子全部吸附。最后產(chǎn)出的水就是不含任何其他離子的超純水。

EDI水處理系統(tǒng)工藝重要性
1.EDI設(shè)備能保持超純水出水水質(zhì)的穩(wěn)定度。
2.EDI水處理系統(tǒng)能連續(xù)生產(chǎn)出符合高精密產(chǎn)業(yè)技術(shù)要求的超純水。
3.EDI水處理系統(tǒng)無(wú)酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用。不需酸堿再生，無(wú)污水排放，降低了工業(yè)污染，改善了環(huán)境，提高了生產(chǎn)效率。
4.目前工業(yè)自動(dòng)化進(jìn)程不斷加快，EDI水處理工藝自動(dòng)化程度高，不會(huì)因再生而停機(jī)。模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)PLC全自動(dòng)控制，是加速工業(yè)發(fā)展的必備條件之一。

EDI水處理系統(tǒng)工藝操作注意事項(xiàng)
1. 設(shè)備運(yùn)行前請(qǐng)仔細(xì)閱讀產(chǎn)品說(shuō)明相關(guān)手冊(cè)，熟悉產(chǎn)品操作方法及每個(gè)工藝環(huán)節(jié)使用規(guī)范要求。
2. 在過(guò)濾時(shí)，要對(duì)各環(huán)節(jié)水質(zhì)PH值、濁度、產(chǎn)水量進(jìn)行相應(yīng)檢測(cè)。式每道工序都是合格有效的。只有前端過(guò)濾環(huán)節(jié)水質(zhì)合格，才能保證后端EDI設(shè)備除鹽后水質(zhì)達(dá)標(biāo)。
3. 當(dāng)EDI設(shè)備濃水電導(dǎo)上升到40us以上是，需要打開(kāi)鎮(zhèn)流器電源，隨著電流和電壓逐漸升高，將電流控制在一個(gè)合理范圍之內(nèi)，正常范圍是24-36A之間。
4. EDI水處理系統(tǒng)工藝可以24小時(shí)不停歇運(yùn)作。如果產(chǎn)線需要對(duì)于設(shè)備進(jìn)行關(guān)機(jī)，需要按一下操作步驟進(jìn)行設(shè)備關(guān)閉：先關(guān)閉計(jì)量泵→關(guān)閉鎮(zhèn)流器→待濃水電導(dǎo)值下降到40us之后→關(guān)閉濃水循環(huán)泵→除鹽水泵→真空泵→關(guān)閉氮?dú)獗?rarr;冷凍水閥。

EDI水處理系統(tǒng)工藝自動(dòng)化程度高，可操作性性強(qiáng)，是很多大型工業(yè)用水過(guò)濾必備的設(shè)備之一。在操作EDI水處理系統(tǒng)工藝一定要按照工藝流程方法進(jìn)行操作，以保證設(shè)備的合理有序運(yùn)行。

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